二手日本创技双面抛光机/研磨机16B 20B 28B 30B 40B介绍
抛光工艺可以分为三类。
(1)机械抛光法。机械抛光的原理与磨片工艺相同,但其采用的磨料颗料较细些。机械抛光的硅片一般表面平整度较高,但损伤层较深,若采用较细的磨料抛光则速度很慢。目前工业上一般已不采用机械抛光法。
(2)化学抛光法。化学抛光常用与的混合腐蚀液进行。经化学抛光的硅片表面可以做到没有损伤,抛光速度也较快,但平整度相对较差,因此在工业生产中化学抛光一般作为抛光前的预处理,而不单独作为抛光工艺使用。
(3)化学-机械抛光法。化学-机械抛光法(CMP)利用抛光液对硅片表面的化学腐蚀和机械研磨同时作用,兼有化学抛光和机械抛光两种抛光法的优点,是现代半导体工业中普遍采用的抛光方法。化学-机械抛光法所采用的抛光液一般是由抛光粉和**溶液酿成的胶体溶液,抛光粉通常为SiO2。
二手机械库存明细(可租可售)
双面抛光机系列:
日本:hamai16B speedfam16B 21B 28B 30B 40B 双面抛光研磨机
德国:Peter Woltewww.mczyw.comrs 319/320系列双端面抛光机
国产:金研/宇晶 兰州瑞德9.6B 9S 9B 13B 15B 16B 20B
镀膜机械系列:
日本:光绍兴佳友门业弛OTFC-1300/1550/2350
德国:莱宝:1100
:龙翩LP-1400/1650/1800
韩国:韩一 1200 1600 联合2050
南光:1100/1300
检测仪器:
日本岛津:1900/2401/2550/3700分光光度计
日 立 :2900/4000/4001/4150 光谱仪
/三次元(2010/3020/4030.......)
一批二手形机120/175MM
一批无尘洁净台2.44*1.2*1.95米
一批10-13槽半自动超声波清洗机
切割机:
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